水基清洗剂系列：

MICRONOX ® MX2708 （先进封装清洗剂）

MICRONOX MX2708专为清洗无引脚之元器件的挑战而设计的，例如低间隙、细间距铜柱倒装芯片、2.5D/3D ICs, SiP和

AiP。MX2708以较低并安全的操作浓度能够彻底清除各种有机酸残留，同时不影响外露的金属和金属合金，包括铜、铝、

锡、铅、镍、银和金镀层。

MICRONOX ® MX2100 （功率元件/模块水基清洗剂）

MICRONOX MX2100为一款水基清洗溶剂。专为功率元件及功率模块设计用于清洗高铅及无铅工艺的助焊剂残留。

MX2100特制的配方提供优越的清洗能力同时兼容各种敏感金属。清洗后无污染物同时维持原有金属表面状态以利

后续打线及塑封工艺。低浓度配制使用，稀释后不分层，易于浓度监控。

MICRONOX ® MX2150 （相机模组清洗剂）

MICRONOX MX2150为一款经济型免稀释清洗溶剂，专为相机模组产品 (CMOS, CCD) 装配后的助焊剂残留设计。MX2150

适用于超声波清洗设备，有效清洗各式无铅工艺所残留下的污染物。MICRONOX MX2150温和配方能兼容无铅工艺所使用的

各式金属、焊点及软性线路板材料。低成本、使用简便、清洗后易漂洗不残留于排线插槽孔隙。

AQUANOX ® A4638 （有机酸残留物清洗剂）

AQUANOX A4638专为去除水溶性助焊剂残留物设计，用于先进封装应用，例如晶圆植球、倒装芯片和LGAs。

A4638具有低表面张力和出色的金属兼容性。

AQUANOX ® A4727 （升级版水基清洗剂）

AQUANOX A4727是一款稳定、高效的清洗剂，可以有效提高产品可靠性，适用于各种电子组装工艺及应用；采用先进

的技术确保pH值稳定、兼容性良好、寿命长、充分满足客户的清洗性能要求。A4727使用浓度低，能有效去除顽固性

污染物，漂洗简单而彻底，绿色环保。这款使用简单、经济实惠的清洗剂适用于在线和批次清洗设备。